Para modelar partes de una película delgada o la mayor parte de un sustrato. Utiliza luz para transferir un patrón geométrico de una máscara a una "fotoresina" química sensible a la luz. La cotización es por muestra y por evento. Es necesario conocer las características de las muestras y establecer los alcances del proceso en un acuerdo previo de colaboración. Por proyecto y definiendo por anticipado los alcances de la investigación por acuerdo. | ||
Con aplicaciones en la alteración del índice de refracción de las guías de onda canal y planas. También para actividades de investigación en Química. Por muestra y por evento. | COSTOS Público General $2,000.00 UASLP $1,000 | |
Todas estas técnicas con múltiples aplicaciones en la industria y la investigación en caracterización del crecimiento in situ como reflectancia diferencial, medida de la tensión y dispersión de luz láser. Es necesario conocer las características de las muestras y establecer los alcances del proceso en un acuerdo previo de colaboración. Por proyecto y definiendo por anticipado los alcances de la investigación por acuerdo. |